経済産業省は３日、米マイクロン・テクノロジーが広島工場（広島県東広島市）で行う設備投資と研究開発に対し、最大１９２０億円の補助を行うと発表した。同社は同工場で２０２６年頃に最先端メモリー半導体（ＤＲＡＭ）の量産を始める計画。自動運転や生成ＡＩ（人工知能）などに活用されるという。国内における半導体生産の投資を支援することで、安定供給の確保など経済安全保障の強化にもつなげたい考えだ。

マイクロンは日本に最大５千億円を投資する計画を５月に公表した。広島工場では、半導体を微細化するための最先端技術を用いた「ＥＵＶ（極端紫外線）露光装置」を、国内で初めて量産用に導入し、次世代ＤＲＡＭを生産する。生産能力は月間４万枚（１２㌅換算）を計画している。

補助の内訳は先端ＤＲＡＭを量産する生産ラインなどの設備投資に１６７０億円、次々世代大容量・広帯域メモリー（ＨＢＭ）の研究開発に最大２５０億円としている。

西村康稔経産相は３日の閣議後会見で「経済安全保障上、日本が将来必要とする先端半導体をしっかりと安定供給をしてもらう」と期待を述べた。

※日刊自動車新聞2023年（令和5年）10月4日号より